最終更新日:14/04/07
ウエーハパターン検査技術
“INSPECTRA”技術資料
Technology of Pattern Inspection
System "INSPECTRA"
検査アルゴリズム:
DSI比較法
"INSPECTRA"の検査アルゴリズムは、”DSI(Die-to-Statistical Image)比較法”という独自の良品学習方式アルゴリズムであり、疑似欠陥の発生頻度を低く押さえることができる(図1参照)。本アルゴルズムは、学習(SI作成)と検査(比較)という2ステップにて検査を行う。学習では、複数枚の実デバイスの画像を入力し、統計処理することで良品バラツキを含んだSIデータベースを作成する。検査ではこのデータベースと被検査画像とを比較することで欠陥を検出する。
DSI比較法の特徴を以下にまとめる。
図1 DSIアルゴリズム概念図 |
ウエーハ外観検査装置INSPECTRA
本装置は、半導体、または磁気ヘッドのウエーハパターンを全自動で検査する。搬送部は、3軸ロボットと非接触式プリアライナおよび自動検査ステージから構成され、カセットtoカセットの全自動外観検査が可能となっている。光学部は、無限遠系の光学顕微鏡をベースにしており、通常、対物レンズ5倍以下を使用して外観検査を行う。光学条件や検査領域などの測定条件は、検査プログラム毎にハードディスクに保存される。検査結果もハードディスクに保存され、測定後被検査ウェーハを使用してのレビューやウェーハマップの出力が可能である。欠陥情報としては、欠陥の位置と大きさを保存しており、オプション機能としてユーザのニーズにあった形式にて欠陥情報を出力可能である。
検査感度
検査感度は、使用する顕微鏡対物レンズに依存するが、通常は1.25倍〜5倍の対物レンズを使用する。それぞれの対物レンズに対する検査画素分解能と検査視野を表1に示す。チップサイズが、検査視野よりも大きい場合は、1チップを複数の視野に分割して検査を行う(マルチFOV検査)。逆に、1視野内に複数個のチップが入る場合には、マルチ・チップ検査を行う。
表1 対物レンズ倍率と画素分解能(INSPECTRA 1000SX-II)
対物レンズ | 画素分解能(μm) | 検査視野(FOV)(mm) |
1.25X | 4.3 | 5.4 X 4.3 |
2.5X | 2.1 | 2.6 X 2.1 |
5X | 1.1 | 1.4 X 1.1 |
10X | 0.5 | 0.6 X 0.5 |
欠陥検出例
アルミパターンを含む最終外観検査での欠陥検出 (左)検査画像 (右)拡大レビュー画像 |
アルミパターンを含む最終外観検査での欠陥検出 (左)検査画像 (右)拡大レビュー画像 アルミグレインよりも小さい欠陥を検出している |
適用対象
参考文献