最終更新日：14/04/07

干渉計測技術資料 No.4

光干渉法による透明膜の測定

Technology of Interferometric Film Profiling

概要

光干渉法による表面形状測定装置をベースに、独立透明膜、あるいは被覆透明膜の表面形状、裏面形状、膜厚分布を同時測定する技術を開発した。プラスチック・フィルム、レジスト膜、半導体CMP薄膜などの測定例を紹介する。
1.　　　はじめに 2.　　　透過干渉法 2.1 　　原理 2.2 　　測定例 3. 　　透明厚膜の膜形状測定 3.1 　 従来法の問題点 3.2 　 KFアルゴリズム 3.3 　　測定可能膜厚範囲 3.4 　　測定例 3.4.1 　膜厚段差 3.4.2 　膜厚傾斜ウエーハ 3.4.3 　レジスト膜の膜形状と屈折率の測定 3.4.4 　測定再現性 3.4.5 　断層表示 4. 　　透明薄膜の膜形状測定 4.1 　　NFアルゴリズム 4.2 　　測定例 4.2.1 　薄膜段差 4.2.2 　膜厚測定範囲 4.2.3 　測定再現性 4.2.4 　CMP試料 5. 　　おわりに

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